组合逻辑电路的时序特征包括传播延迟(propagation delay)和最小延迟(contamination delay)。传播延迟tpd是当输入改变直到一个或多个输出达到它们的最终值所经历的最长时间。最小延迟tcd是当一个输入发生变化直到任何一个输出开始改变的最短时间。
建立时间是输入数据D在时钟上升沿之前必须有效的时间。这就相当于问:在时钟上升沿之前输入D必须稳定多长时间才能使QM采样的值是可靠的?对于传输门多路开关型寄存器,输入D在时钟上升沿之前必须传播通过I1、T1、I3和I2,这就保证了在传输门T2两端的节点电压值相等。否则,
在前面介绍的两相时钟技术中,必须十分小心地对两个时钟信号布线以保证它们的重叠最小。真单相钟控寄存器的优点是使用单个时钟,缺点是稍微增加了晶体管的数目——现在需要12个晶体管。TSPC还可以将逻辑功能嵌入到锁存器中,能够显著地提高性能。
在时钟的高电平阶段,如果D输入翻转到高电平,则节点X翻转到低电平。因此输入必须保持稳定,直到节点X在时钟上升沿之前的值传送到Y,这即是寄存器的保持时间(近似为一个反相器延时)。资存器的传播延时是节点X上的值传送到输出Q的时间,即三个反相器的延时。建立时间是使节点X有效的时间,所以是一个反相器的延时。
关于CMOS组合逻辑设计的补充:
静态CMOS反相器的重要特性:
1、输出高电平和低电平分别为VDD和GND。换言之,电压摆幅等于电源电压。因此噪声容限很大(接近VDD/2)。
2、逻辑电平与器件的相对尺寸无关,所以晶体管可以采用最小尺寸。
3、稳态时在输出和VDD或GND之间总存在一条具有有限电阻的通路。因此一个设计良好的CMOS反相器具有低输出阻抗,这使它对噪声和干扰不敏感。
4、CMOS反相器的输入电阻极高,因为一个MOS管的栅实际上是一个完全的绝缘体,因此不取任何dc(直流)输入电流。由于反相器的输入节点只连到晶体管的栅上,所以稳态输入电流几乎为零。
5、在稳态工作情况下电源线和地线之同没有直接的通路(即此时输入和输出保持不变)。没有 电流存在(忽略漏电流)意味着该门并不消耗任何静态功率。
一个门的传播延时定义了它对输入端信号变化的响应有多快。它表示一个信号通过一个门时所经历的延时,定义为输入和输出波形的50%翻转点之间的时间。

与tpLH和tpHL相反,传播延时只是一个人为的逻辑门质量指标,本质上没有任何物理意义。它大多用来比较不同的半导体工艺、电路或逻辑设计类型。
传播延时不仅与电路工艺和拓扑连接有关,还取决于其他因素。最重要的是延时与门的输入输出信号斜率有关。为了定量这些特性,我们引入了上升和下降时间tr和tf,它们是用来衡量单个信号波形而不是针对门的,并且它们表明了信号在不同电平间的翻转有多快。如图所示把上升和下降时间定义为在波形的10%和90%点之间。一个信号的上升/下降时间很大程度上取决于驱动门的强度以及它所承受的负载。

数字电路常被模拟成图1.21类型的一阶RC网络。因此这样一个网络的传播延时是令人感兴趣的。

当加上一个阶跃输入(vin从0至V)时,这一电路的瞬态响应已知为一个指数函数,并且由 以下表达式给出(这里τ=RC,为网络的时间常数):

达到50%点的时间可以很容易计算出为t=ln2τ=0.69τ。同样,需要t=ln9τ=2.2τ时间从10%达到90%点。
人们常常希望一个门对于上升和下降输入具有相同的传播延时。这一状况可以通过使NMOS和PMOS晶体管的导通电阻近似相等来实现,这一条件与对称VTC所要求的条件是一样的。
充(放)电一个电容时的等效电阻:

可以得到:
1、电阻反比于器件的(WL)比。晶体管的宽度加倍时将使电阻减半。
2、当VDD>>Vth+Vdsat/2时,电阻实际上将与电源电压无关。
3、一旦电源电压接近Vth,电阻会急剧增加。
反相器的传播延时:

展开延时公式中的Req以显示出决定延时的参数:

注意,这只是一阶近似,由于沟长调制系数非零,提高电源电压将使性能得到尽管很小但可以观察到的改善。
减小一个门传播延时的设计技术☆:
1、减小CL。这个负载电容由三个主要部分组成:门本身的内部扩散电容、互连线电容和扇出电容。细致的版图设计有助于减少扩散电容和互连线电容。优秀的设计实践要求漏扩散区的面积越小越好。
2、增大晶体管的W/L比。
3、提高VDD。
如果驱动源的输出能够被接收端的输入正确解释,则必须选择VOL<VIL和VOH>VIH。因此,即使驱动源的输出被一些噪声干扰,接收端的输入依然能够检测到正确的逻辑电平。可以加在最坏情况输出上但依然能正确解释为有效输入的噪声值,称为噪声容限(noise margin)。 从图1-23中可以看出,低电平和高电平的噪声容限分别为:

门的直流电压传输特性(VTC)描述了当输入电压变化足够慢且保证输出能跟上输入的变化时,输出电压随输入电压变化的函数关系。理想的反相器应在输入电压达到门限VDD/2时产生一个跳变,真实的反相器在两个极端之间变化得更缓慢一些,如图1-25b所示。当输入电压V(A)等于0时,输出电压V(Y)=VDD。当V(A)=VDD时,V(Y)=0。然而,这两个端点之间的变化是平滑的,而且可能并不会恰恰在中点VDD/2突变。这就产生了如何定义逻辑电平的问题。
一种选择逻辑电平的合理方法是选择在传输特征曲线斜率dV(Y)/dV(A)为-1的位置。这两个位置称为单位增益点(unity gain point)。在单位增益点选择逻辑电平可以最大化噪声容限。如果VIL减少,VOH将仅仅增加一点。如果VIL增加,VOH则将显著降低。

为了避免输入落到禁止区域,数字逻辑门的设计需要遵循静态约束(static discipline)。静态约束要求,对于给定的有效逻辑输入,每个电路元件应该能产生有效的逻辑输出。
功耗(power consumption)是单位时间内所消耗的能量。数字系统包含动态功耗(dynamic Power)和静态功耗(static Power)。动态功耗是信号在0和1之间变化过程中电容充电所耗费的能量。静态功耗是当信号不发生变化时,系统处于空闲状态下的功耗。逻辑门和连接它们的线都有电容。将电容C充电到电压VDD所需的能量为CVDD^2。如果电容电压切换的频率为f(每秒变化f次),即在1秒内将电容充电f/2次,放电f/2次。由于放电过程不需要从电源中获取能量,所以动态功耗为:

或:

当电源电压的下限取决于外部限制(如经常在实际设计中发生的那样)或者当减小电源电压引起的性能降低不能被接受时,减少功耗的唯一方法就是减少等效电容。这可以通过减少它的两个方面来实现:实际电容及翻转活动性。
减少翻转活动性只能在逻辑和结构的抽象层次上实现,减少实际电容总体来说很值得,因为它同时也帮助改善电路的性能,由于在一个组合逻辑电路中大部分的电容是晶体管电容(栅电容和扩散电容),因此在进行低功耗设计时保持这部分电容最小有意义的。这意味着应当保持晶体管有尽可能或合理的最小尺寸。这无疑会影响电路性能,但这一影响可以通过逻辑或结构上的加速技术来弥补。
假定我们必须使一个电路的能耗最少而又同时满足所规定的对性能的最低要求,一个吸引人的方法是尽可能地降低电源电压,而用加大晶体管的尺寸来补偿性能上的损失,但在最优值之外过多地加大晶体管的尺寸会付出较大的能量代价。
在实际设计中,假设输入波形的上升和下降时间为零是不正确的。输入信号不为无穷大的斜率造成了开关过程中VDD和GND之间在短期内出现一条直流通路,此时NMOS和PMOS管同时导通。
直接通路引起的功耗与开关活动性(swiching actvity)成正比,这类似于动态功耗。tsc代表两个 器件同时导通的时间。短路电流功耗可以通过使输入和输出信号的上升/下降时间匹配来达到最小。在整个电路层次上,这意味着所有信号的上升/下降时间应当保持在一定范周内不变。使一个门的输入和输出上升时间相等就这个具体的门本身而言并不是一个最优的结果,但却能保持整个短路电流在界定的范围内。
当晶体管处于截止状态时,它们会泄漏少量电流。如伪nMOS电路,在电源和地之间始终有电流不断流经的通路。 这个静态电流Idd称为电源和地之间的漏电流(leakage current)或静态电源电流(quiescent supply current)。静态功耗正比于漏电流。
CMOS反相器的总功耗现在可以表示为三部分的和:

在典型的CMOS电路中动态功耗是占主导地位的因素。直接通路功耗可以通过细心的设计控制在限定范围之内,漏电目前可以忽略,但在不久的将来这种情形会有所改变。
可将功耗-延时积(PDP)作为一个逻辑门的质量评定指标:

PDP是能量的衡量,这从它的单位(W×s=焦耳)就可以清楚地看出。假设这个门以其最大可能的速率f=1(2tp)切换,并忽略静态和直接通路电流引起的功耗,我们得到:

这里,PDP代表每次开关(即0-1或1-0的翻转)消耗的能量。我们通常感兴趣的是每个翻转周期所消耗的能量Eav。由于每个反相器周期包括一个0-1和一个1-0的翻转,因此Eav是PDP的两倍。
使工艺尺寸变小是减少一个门的面积、传播延时以及功耗的有效手段。
降低开关活动性的设计技术:
1、逻辑重组。改变逻辑电路的拓扑结构可以降低它的功耗。对于随机输入,链形实现比树形实现总体上具有较低的开关活动性。 然而考虑时序特性以准确地综合考虑功耗问题也是很重要的。在本例中,树形拓扑结构(实际上)没有任何毛刺活动性,因为信号路径对于所有的门都是均衡的。

2、
输入排序。推迟输入具有较高翻转率的信号(即信号概率接近0.5的信号)是有利的。

3、通过均衡信号路径来减少毛刺。电路中产生毛刺主要是由于在电路中路径长度失配引起的。如果一个门的所有输入信号同时改变,那么就不会发生毛刺。反之,如果各输入信号在不同的时刻变化,那么就有可能形成动态故障。

虽然互补CMOS是一种实现逻辑门的非常有效和简单的方法,但随着门复杂性(即扇入)的增加,采用这一逻辑类型时会出现两个主要问题。首先,实现一个有N个输入(扇入)的门需要晶体管的数目为2N,这会明显加大它的实现面积。第二,互补CMOS门的传播延时随扇入数迅速增加。
tpLH是扇入的线性函数,而下拉电阻和负载电容(随输入数)同时增加,从而使tpHL以近似呈平方关系地增加。
大扇入时的设计技术:
1、调整晶体管尺寸。最显而易见的解决办法是加大晶体管的尺寸。这能降低串联器件的电阻和减小时间常数。但是晶体管尺寸的增加会产生较大的寄生电容,这不仅会增加该门的传播延时,还会对前一级的门产生一个较大的负载。
2、逐级加大晶体管尺寸。使在延时公式中出现次数最多的电阻对应器件尺寸最大。

3、重新安排输入。在复杂组合逻辑块中有一些信号可能要比其他一些信号更重要。一个门的所有输入并不都在同一时间到达(例如,由于前级门的传播延时不同)。如果门的一个输入信号在所有输入中最后达到稳定值,那么这个输入信号就称为这个门的关键信号。决定一 个结构最终速度的逻辑路径称为关键路径。把关键路径上的晶体管靠近门的输出端可以提高速度。

4、重组逻辑结构☆。变换逻辑方程的形式有可能降低对扇入的要求,从而减少门的延时,如图6.16所示。门的延时与扇入间的平方关系使一个六输入的NOR门极慢。把这个NOR门分解成两个三输入的门显著地提高了速度。

在之前的讨论中认为阀值电压只与制造工艺和所加体偏电压Vsb有关,所以在设计中可以把阀值看成对所有的NMOS(PMOS)管都是一个常数。随着器件尺寸的缩小,这一模型不再精确,阀值电压变成与W、L和Vds有关,例如对于短沟道器件Vth随L而减小。
速度饱和:沟道非常短的晶体管具有速度饱和特性。相关公式表明载流子的速度正比于电场,且这一关系与电场强度值的大小无关。换言之,载流子的迁移率是一个常数。然而在(水平方向)电场强度很高的情况下,载流子不再符合这一线性模型。事实上当沿沟道的电场达到某一临界值时,载流子的速度将由于散射效应而趋于饱和。
热载流子效应:短沟道器件的阙值电压除了设计间会有偏差之外,它也往往会随时间漂移。这是由于热载流子效应的结果。在过去几十年中,器件的尺寸已不断缩小,但电源和工作电压并没有相应地降低。其结果是电场强度提高,使电子速度增加,一但它们达到了足够高的能量就会离开硅而隧穿到栅氧中。在栅氧中被俘获的电子将改变阀值电压,一般都增加NMOS器件的阙值而减少PMOS管的阈值。在深亚微米工艺中一般都降低电源电压,其部分原因就是由于控制热载流子效应的需要。
CMOS闩锁效应:MOS工艺会包含许多内在的双极型管。它们在CMOS工艺中特别会引起麻烦,因为同时存在的阱和衬底会形成寄生的n-p-n-p结构。这些类似于闸流管的器件一且激发即会导致VDD和VSS短路,这通常会破坏芯片,或至少会使系统无法工作而只能断电后重新启动。为了避免闩锁效应,应当使衬底电阻和阱电阻最小,这可以通过提高很多衬底和阱的接触并把它们放在源端接线附近来实现。传送大电流的器件(如在I/O驱动器中的晶体管)应当在周围有保护环(guard ring),这些放置在晶体管周围的环形阱/衬底接触可以进一步减小电阻,从而减小寄生双极型管的增益。
参考书籍:
- 《数字设计和计算机体系结构》
- 《基于FPGA与RISCV的嵌入式系统设计》
- 《数字集成电路——电路、系统与设计》
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